deposizióne
IndiceLessico
Sf. [sec. XIV; da deporre].
1) Atto ed effetto del deporre. In particolare, deposizione dalla croce, la rimozione di Gesù dalla croce e il suo seppellimento, cui provvidero Giuseppe d'Arimatea (Matteo 27, 57-61; Marco 15, 42-47; Luca 23, 50-56) e Nicodemo (secondo Giovanni 19, 38-42). Per estensione, opera figurativa che rappresenta questo atto: una deposizione di epoca barocca.
2) Rimozione da una dignità, da una carica, da un ufficio: la deposizione del sovrano. In particolare, in diritto canonico, la sospensione dall'ufficio, beneficio o incarico, che un ecclesiastico detiene. È una pena punitiva ed è applicata per i reati più gravi (eresia, sacrilegio sull'Eucarestia, atti gravi di lussuria ecc.).
3) Il testimoniare in un giudizio, l'insieme delle dichiarazioni rese a testimonianza di qualche cosa: la deposizione del teste è favorevole all'imputato.
4) In metallurgia, rivestimento di un determinato materiale con un altro; il primo materiale è detto di base o di supporto, il secondo di apporto. La deposizione può avvenire da plasma, da fase vapore, da fase liquida, da sali fusi, da bagni elettrolitici ecc. e si prefigge lo scopo di conferire al pezzo da trattare proprietà superficiali particolari attraverso la formazione di uno strato continuo e aderente di spessore dell'ordine dei micron.
5) In geologia, processo costruttivo sedimentario comportante l'accumulo su una superficie, subaerea o subacquea, di ogni tipo di materiale sciolto (granuli, elementi clastici, frammenti organici) al diminuire della capacità di trasporto del mezzo fluido (aria o acqua) in cui è sospeso. In ambiente subacqueo si può anche avere deposizione per precipitazione di sali disciolti da rocce e trasportati in soluzione. In particolare, sono dette forme da deposizione le forme del paesaggio terrestre dovute all'azione costruttrice degli agenti geomorfologici (vento, acque correnti, mare, ghiacciai, vulcani ecc.). Alla deposizione eolica sono essenzialmente da riferire le coltri di loess e le dune. Alla deposizione delle acque correnti (alluvionamento) si deve la genesi delle isole fluviali, delle penisole di confluenza, dei conoidi di deiezione, dei delta e delle relative pianure deltizie, delle pianure alluvionali e delle coltri alluvionali in genere. Forme da deposizione per azione del mare sono barre, cordoni, litorali, lidi, tomboli, lagune ecc. A opera dei ghiacciai e delle loro acque di fusione sono dovuti gli anfiteatri morenici, gli eskers, i kames, i kettles, i sanders ecc.
Deposizione di Cristo raffigurata in un dipinto del Beato Angelico (Firenze, Museo di San Marco).
De Agostini Picture Library/G. Dagli Orti
Iconografia
La rappresentazione iconografica della deposizione di Cristo appare per la prima volta in una miniatura del Codex Egberti (ca. 980; Treviri, Stadtbibliothek), nella quale compaiono solo le figure di Giuseppe d'Arimatea e di Nicodemo, che staccano il corpo di Cristo morto dalla croce. Successivamente (sec. XI) a questi personaggi si aggiungono la Vergine, le pie donne e San Giovanni Evangelista (B. Antelami, 1178, duomo di Parma; deposizioni lignee di Tivoli e di Volterra, sec. XIII). A partire dal Quattrocento la composizione diviene più complessa; nel gruppo si inseriscono altre figure, tra cui quella della Maddalena; accanto alla croce, molto alta, sono collocate due scale, su cui stanno due uomini che aiutano Giuseppe d'Arimatea e Nicodemo a schiodare Cristo (Beato Angelico, convento di S. Marco, Firenze; Rosso Fiorentino, Volterra, Pinacoteca; Rubens, cattedrale di Anversa; Rembrandt, Monaco, Pinacoteca).
Industria: deposizione chimica da fase vapore (CVD)
Processo di deposizione spesso indicato con l'acronimo CVD (Chemical Vapour Deposition) ed estesamente impiegato in campo industriale per la produzione di materiali caratterizzati da elevate purezza e cristallinità e da bassa porosità; è usato soprattutto per realizzare microcomponenti per circuiti elettronici, sensori ecc. e rivestimenti con materiali refrattari (siliciuri, nitruri, carburi, diamante). Essenzialmente si effettua introducendo opportuni reagenti chimici gassosi (tipicamente di natura inorganica), a pressione atmosferica o a pressione ridotta, in una camera di deposizione dove è posto un substrato (nel caso della produzione dei rivestimenti, il substrato è il pezzo da ricoprire con il coating refrattario). I reagenti vengono trasportati via fase vapore (ove possono subire varie trasformazioni chimiche) nella zona ove si trova il substrato, diffondono verso la superficie di questo, ne vengono adsorbiti e qui danno luogo a una reazione chimica di decomposizione che produce un nuovo composto, allo stato cristallino, che si deposita sul substrato. Il deposito si accresce ordinatamente a mano a mano che il processo prosegue, mentre i prodotti gassosi della reazione di superficie vengono desorbiti e fuoriescono dalla camera. Per esempio, è possibile realizzare deposizioni di diamante a partire da metano o altri idrocarburi, di tungsteno a partire dal suo esafluoruro WF6, di nichel a partire dal suo complesso carbonilico, Ni(CO)4. Nel processo più tradizionale (CVD termica) il substrato è riscaldato a una temperatura opportuna in modo tale da favorire la reazione di deposizione. Sono state in seguito sviluppate diverse varianti che offrono vantaggi di natura economica e tecnica: a) CVD mediante laser, nella quale la reazione di deposizione è indotta mediante un riscaldamento estremamente localizzato della superficie del substrato, realizzato per irraggiamento con radiazione laser, che facilita la diffusione dei reagenti e dei prodotti gassosi verso e dalla superficie e permette, grazie all'elevata focalizzazione del laser e alla conseguente limitatezza della superficie riscaldata, di controllare geometricamente la formazione e la crescita del deposito; b) CVD con reagenti metallorganici, nella quale i reagenti sono costituiti appunto da composti di tipo organometallico, più facilmente decomponibili, e quindi depositabili a temperature molto più basse di quelle usuali; c) CVD assistita da plasma, nella quale nella zona sovrastante il substrato viene prodotto un plasma mediante un campo elettrico di elevata frequenza, in modo tale che gli elettroni ad alta energia in esso presenti collidano con i reagenti gassosi provocandone la dissociazione e determinando la formazione di specie altamente reattive; d) CVD fotochimica, nella quale i reagenti gassosi vengono irradiati con radiazione ultravioletta in grado di rompere i legami chimici e di causare perciò la decomposizione dei composti; in tal caso, la deposizione può avvenire anche a temperatura ambiente.